Наименование услуги

Описание услуги

Регламент предоставления услуги

Стоимость предоставления услуги по прейскуранту цен

Сроки выполнения

Вакуумное напыление с использованием вакуумной полуавтоматической системы резистивного напыления на платформе VSR300

Формирование многослойной структуры из тонких плёнок напылением металлических, диэлектрических и полупроводниковых материалов – как простых веществ, так и сложных соединений, с заданными толщинами каждого слоя.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1550 руб/час

Согласно договору.

Вакуумное напыление с использованием вакуумной полуавтоматической системы с протяженными магнетронами на платформе VSR300

Формирование многослойной структуры из тонких плёнок напылением металлических, диэлектрических и полупроводниковых материалов – как простых веществ, так и сложных соединений, с заданными толщинами каждого слоя.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1835 руб/час

 Согласно договору.

Вакуумное напыление с использованием вакуумной полуавтоматической системы с круглыми магнетронами на VSR300 для напыления слоев металлов, полупроводников и оксидов

Формирование многослойной структуры из тонких плёнок напылением металлических, диэлектрических и полупроводниковых материалов – как простых веществ, так и сложных соединений, с заданными толщинами каждого слоя.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1925 руб/час

 Согласно договору.

Сборка аккумуляторных батарей кнопочного типа (coin cell)

Проведение технологического процесса по сборке источников тока кнопочного типа (coin cell).

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1078 руб/час

 Согласно договору.

Сборка аккумуляторных батарей планарного типа (pouch cell)

Проведение технологического процесса по сборке источников тока планарного типа (pouch cell).

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1179 руб/час

 Согласно договору.

Электрохимическое исследование источников тока на восьмиканальном анализаторе источников питания

Проведение электрохимических исследований в области определения коррозионных изменений, возобновляемых источников энергии, фундаментальной электрохимии, сенсоров и т.д. Тестирование портативных аккумуляторов, а также исследование ресурса электродных материалов.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

631 руб/час

 Согласно договору.

Электрохимическое исследование источников тока на потенциостате/гальваностате BIO-LOGIC SP200

Проведение электрохимических исследований в области определения коррозионных изменений, возобновляемых источников энергии, фундаментальной электрохимии, сенсоров и т.д. Тестирование портативных аккумуляторов, а также исследование ресурса электродных материалов.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

773 руб/час

 Согласно договору.

Нанесения тонких слоёв методом электростатического распыления

Создание тонких слоёв на подложке при помощи контролируемого по скорости распыления образца под действием электростатических сил.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1706 руб/час

 Согласно договору.

Синтез и термическая обработка материалов

Синтез и обработка материалов при высоких температурах путём нагрева, обжига, прокалки и других видов термической обработки различных материалов в контролируемой газовой атмосфере.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

833 руб/час

 Согласно договору.

Проведение химических процессов синтеза в реакторе

Проведение химических процессов в модульно расширяемом лабораторном реакторе, разработанном для воспроизведения и оптимизации химических реакций, а также перемешивания и гомогенизации в лабораторных масштабах.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

950 руб/час

 Согласно договору.

Получение сверхтонких плёнок на жёстких подложках методом спин-коатинга.

Проведение очистки подложки и дальнейшее нанесение сверхтонких слоёв методом спин-коатинга.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

838 руб/час

 Согласно договору.

Микрокапельная печать.

Прецизионное контролируемое нанесение на подложку раствора при помощи микропечати с бесконтактным нанесением.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1720 руб/час

 Согласно договору.

Лазерная гравировка.

Лазерная обработка поверхностных слоёв материала изделий с нанесением графических и текстовых изображений.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

960 руб/час

 Согласно договору.

Прецизионная резка пластин.

Резка алмазным диском пластин из керамики, кремния и других материалов.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

917 руб/час

 Согласно договору.

Измерение вязкости.

Определение реологических характеристик жидкостей и пастообразных смесей.

641 руб/час

 Согласно договору.

Микропрофилометрия поверхности.

Измерение топографии, шероховатости и волнистости поверхностей с 3D изображением при точности 20 нм и разрешении в плоскости 1 мкм.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

1012 руб/час

 Согласно договору.

Измерение поверхностного электрического сопротивления.

Измерение удельного поверхностного электрического сопротивления п/п, резистивных и металлических плёнок, на плоской подложке.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

844 руб/час

 Согласно договору.

Спектрофотометрические измерения.

Исследование спектральных характеристик растворов и материалов на спектрофотометре.

Проект приказа с приложением регламента работ, формы типового договора и тарифа предоставления услуги

 Согласно договору.

Наименование единицы  высокотехнологичного оборудования

Информация о технических характеристиках высокотехнологичного оборудования

Описание возможностей единицы  высокотехнологичного оборудования

Регламент работы с применением единицы  высокотехнологичного оборудования

Вакуумная полуавтоматическая система резистивного напыления на платформе VSR300

Количество резистивных испарителей (из них один одновременно работающий): 3 шт.

Мощность блока питания резистивного испарителя: 2,5 кВт

Режим непрерывной работы на токе более 200А: 10 (перерыв 20) мин

Длина лодочек для резистивного испарителя: 100 мм

Предельное давление (достигается при откачке чистой камеры, при предварительном вентилировании сухим азотом и прогреве камеры до 200°С в течении трёх часов): 3,5х10-7 мбар

Максимальный нагрев камеры ТЭНами: 250 °С

Скорость откачки турбомолекулярным насосом: 700 л/с

Скорость откачки форвакуумным насосом: 20 м3/ч

Количество термопар (вид термопары К): 2 шт.

Карусельный механизм вращения подложки (образцов): да

Оборудование предназначено для вакуумного напыления на образцы тонких слоёв материалов. Комплекс оборудования размещен в чистой комнате «Ламинар-С», создающей 6 класс чистоты воздуха. Система настроена на один из методов напыления: метод вакуумного термического испарения, метод магнетронного распыления, метод ВЧ магнетронного распыления, метод ионно-лучевого распыления. Система позволяет создавать электрооптические, многослойные однородные и градиентные покрытия с заданными толщинами каждого слоя

По согласованию с заказчиком

Вакуумная полуавтоматическая система с протяженными магнетронами на платформе VSR300

Максимальный нагрев подложки: 800 °С

Максимальный расход регулятора расхода газа (РРГ): 100 ст. см3/мин

Количество РРГ: 2 шт.

Количество одновременно подаваемых газов: 2 шт.

Ионный источник для очистки 100х400мм: 1 шт.

Количество магнетронов: 2 шт.

Размер мишени: 100х400 мм

Толщина мишени: 10 мм

Тип материала мишени: не ферромагнетик

Предельное давление (достигается при откачке чистой камеры, при предварительном вентилировании сухим азотом и прогреве камеры до 200°С в течении трёх часов): 3,5х10-7 мбар

Максимальный нагрев камеры ТЭНами: 250 °С

Скорость откачки турбомолекулярным насосом: 700 л/с

Скорость откачки форвакуумным насосом: 20 м3/ч

Количество термопар (вид термопары К): 2 шт.

Карусельный механизм вращения подложки (образцов): да

Оборудование предназначено для вакуумного напыления на образцы тонких слоёв материалов. Комплекс оборудования размещен в чистой комнате «Ламинар-С», создающей 6 класс чистоты воздуха. Система настроена на один из методов напыления: метод вакуумного термического испарения, метод магнетронного распыления, метод ВЧ магнетронного распыления, метод ионно-лучевого распыления. Система позволяет создавать электрооптические, многослойные однородные и градиентные покрытия с заданными толщинами каждого слоя

По согласованию с заказчиком

Вакуумная многофункциональная полуавтоматическая система с круглыми магнетронами на платформе VSR300 для формирования слоев металлов, полупроводников и оксидов.

Максимальный нагрев подложки: 800 °С

Максимальный расход регулятора расхода газа (РРГ): 100 ст. см3/мин

Количество РРГ: 2 шт.

Количество одновременно подаваемых газов: 2 шт.

Ионный источник для очистки Ø50мм: 1 шт.

Количество магнетронов: 2 шт.

Размер мишени: Ø50 мм

Толщина мишени Ø50мм: 6 мм

Тип материала мишени: не ферромагнетик

Предельное давление (достигается при откачке чистой камеры, при предварительном вентилировании сухим азотом и прогреве камеры до 200°С в течении трёх часов): 3,5х10-7 мбар

Максимальный нагрев камеры ТЭНами: 250 °С

Скорость откачки турбомолекулярным насосом: 700 л/с

Скорость откачки форвакуумным насосом: 20 м3/ч

Количество термопар (вид термопары К): 2 шт.

Карусельный механизм вращения подложки (образцов): да

Оборудование предназначено для вакуумного напыления на образцы тонких слоёв материалов. Комплекс оборудования размещен в чистой комнате «Ламинар-С», создающей 6 класс чистоты воздуха. Система настроена на один из методов напыления: метод вакуумного термического испарения, метод магнетронного распыления, метод ВЧ магнетронного распыления, метод ионно-лучевого распыления. Система позволяет создавать электрооптические, многослойные однородные и градиентные покрытия с заданными толщинами каждого слоя

По согласованию с заказчиком

Система из двух перчаточных боксов

Общее количество перчаток: 4

Габариты каждого бокса (ДхШхВ, мм): 1200х800х900

Т-образный переходной шлюз диаметром 400 м

Большой шлюз из нержавеющей стали, диаметр 400мм, длина 600мм

Инструментальный шлюз из нержавеющей стали диаметр 110мм, длина 300мм

Анализатор воды (0-1000ppm)

Анализатор кислорода (0-1000ppm)

Автоматическое удаление воды и кислорода (O2,H2O: <= 1 ppm)

Модуль автоматической регенерации системы очистки (регенерационная смесь: H2 5-10% + рабочий газ)

Система тонкой очистки инертного газа от влаги и О2 на основе молекулярных сит и медного катализатора

Система (HEPA-фильтры не менее 2 шт., до 0.3 мкм) очистки газа от механических примесей

Система очистки инертного газа от органики

Система из двух перчаточных боксов предназначена для работы в высокочистой газовой среде с контролируемым содержанием кислорода и воды.

По согласованию с заказчиком

Восьмиканальный анализатор источников питания MTI-BST8-MA

Количество каналов: 8

Диапазон тока: 0.02 мA – 10мA, точность: ±0.05%

Диапазон напряжения: 0.5 – 5В, точность: ±0.05%

Количество циклов измерений: 9999

Особенность работы: Восемь независимых каналов с возможностью раздельного программирования разных режимов работы

Устройство предназначено для тестирования портативных аккумуляторов, а также исследования ресурса электродных материалов. Наличие 8 обособленных каналов, а также держателя для источников питания «кнопочного» типа (CR2016, CR2025, CR2032) позволяет проводить измерения одновременно 8 источников питания.

По согласованию с заказчиком

Потенциостат/гальваностат BIO-LOGIC SP-200

Максимальное напряжение: ±12 В

Диапазон изменения потенциала: ±10 В

EIS измерение: 3 МГц (1%, 1°) 1 МГц 7 МГц (3%, 3°)

Диапазон тока: от 500 мA до 1 мкA

Разрешение тока: 760 фA

Низкий ток: 6 диапазонов от 100 нA до 1 пA с разрешением 76 фA

Режим измерений без заземления прибора

Аналоговая фильтрация

Плата калибровки

Режим полного контроля стабильности (9 диапазонов)

Ультранизкий ток: диапазон до 1 пA

Встроенный EIS анализатор: 10 мкГц до 7 МГц

Генератор линейной развертки до 1 МВ/с

Устройство позволяет проводить исследования в области определения коррозионных изменений, возобновляемых источников энергии, фундаментальной электрохимии, сенсоров и т.д.

По согласованию с заказчиком

Установка электростатического спреевого осаждения ESPRAYER ES-2000S2A

Модуль высокого напряжения от 3 кВ до 30 кВ

Величина потока от 0,1 мкл/мин до 1000 мкл/мин

Ток на форсунке – до 30 мкА

Напряжение на форсунке – до 30 кВ

Объем шприца – 5 мл

Максимальное количество шприцов - 2

Расстояние от шприца подложки до форсунки – от 50 мм до 250 мм

Запыляемая область подложки не более 200 x 200 мм

Движение распылителя (X,Y) – в диапазоне 200 × 200 мм

Контролируемое движение распылителя (по оси Z) - от 50 до 200 мм

Движение столика со скоростью от 0.1 мм/с до 100 мм/с

Возможность контролируемого создания трафарета на поверхности подложки из не более 99 точек

Возможность нагрева до температуры в диапазоне от 20˚С до 60˚С

Измерение температуры в диапазоне от 0˚С до 99˚С с точностью не хуже 2˚С

Измерение влажности в диапазоне от 2 % до 100 % с точностью не хуже 5 %

Данная установка позволяет создавать тонкие слои на подложке при помощи контролируемого по скорости распыления образца под действием электростатических сил. Установка может быть использована для создания нановолокон, тонких слоёв на подложке, покрытия частиц, микроструктурирования поверхности и т.д.

По согласованию с заказчиком

Печь трубчатая STF 15/180/301

Максимальная рабочая температура 1500°C

Внешний диаметр используемых рабочих трубок 60 мм

Нагреваемая длина рабочей трубки 180 мм

Нагревательные элементы из карбида кремния

Горизонтальная конструкция

ПИД-контроллер Carbolite 301, с функцией линейного изменения температуры

Таймер отложенного пуска и процесса

Высокотемпературная трубчатая печь позволяет проводить нагрев и отжиг материалов в контролируемой газовой атмосфере, а также в вакууме.

По согласованию с заказчиком

Печь муфельная SNOL 7.2/1300

Объем: 7.2 л

Диапазон автоматического регулирования температуры: 50 – 1300 °С

Стабильность температуры в установившемся тепловом режиме: +/- 2 °С

Размеры рабочей камеры не менее: Ш*Г*В = 200*300*130 мм

Электропечь предназначена для сушки и термообработки в воздушной среде при температуре до 1300°C

По согласованию с заказчиком

Лабораторный химический реактор IKA LR-2ST

Полезный объем мин.: 500 мл

Полезный объем макс.: 2000 мл

Рабочая температура мин.: температура окружающей среды

Рабочая температура макс.: 230 °C

Досягаемый вакуум: 25 мбар

Вязкость: 150000 сПуаз

Диапазон вращающего момента: 8 – 290 об/мин

Ход телескопического штатива: 390 мм

Материал в контакте со средой: Боросиликат. стекло, FFPM, PTFE, сталь 1.4571

Открытия реакторных сосудов (шт./норма): 3/NS 29/32, 2/NS 14/23

Система LR-2.ST является модульно расширяемым лабораторным реактором, разработанным для воспроизведения и оптимизации химических реакций, а также для перемешивания и гомогенизации в лабораторных масштабах.

По согласованию с заказчиком

Плазменная система очистки поверхности подложек DEINER ELECTRONIC ATTO I

Камера: материал стекло, Ø 211 мм, глубина 300 мм

Объем камеры: ~ 10,5 литра

Подвод газа: 2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами

Генератор: 40 кГц /200 Вт или 13,56 мГц /50 Вт

Вакуумный насос: 2 м³/час

10,5-литровая лабораторная установка с полуавтоматическим управлением применяется для очистки, активации, а также травления поверхности.

По согласованию с заказчиком

Центрифуга SPIN-1200T

Толщины наносимых слоев от 1000 А до 100 мкм

Размер подложек от 5х5 мм до 100 мм в диаметре

Ручное дозирование фоторезиста

Держатели подложек с вакуумным или механическим прижимом

Скорость вращения от 300 до 10000 об/мин +/-1% для не загруженного держателя

Настольная лабораторная центрифуга для нанесения жидких материалов на планарные подложки.

По согласованию с заказчиком

Вискозиметр ротационный Lamy Rheology FIRST RM

Диапазон измерения динамической вязкости: от 3 до 156•106 мПа•с

Количество скоростей вращения: 21

Диапазон скоростей вращения: от 0,3 до 250 об/мин

Диапазон «крутящего момента» (измеряемых моментов силы сопротивления): от 0,05 до 10 мН•м

Диапазон измерения температуры (встроенным датчиком): от 0 до +120 °С

Пределы допускаемых значений относительной погрешности измерения вязкости с системой ASTM: ±10%

Пределы допускаемых значений абсолютной погрешности при измерении температуры: ±0,5 °С

Вискозиметр ротационный Lamy Rheology First RM предназначен для измерения динамической вязкости и реологических характеристик жидкостей и пастообразных смесей в условиях лаборатории.

Вискозиметр может применяться в пищевой, фармацевтической, косметической, химической, нефтехимической и других отраслях промышленности.

По согласованию с заказчиком

Измеритель поверхностного сопротивления JANDEL, RMS-EL-Z

вырабатываемое напряжение от 0.01 мВ до1250 мВ

вырабатываемый постоянный ток от 10 нА до 99 мА

диапазон измерения поверхностного сопротивления от 1 мОм/площадь до 500 Мом/площадь

диапазон измерения удельного объемного сопротивления от 1 мОм*см до 1Мом*см

точность измерений - 0.3%

наличие встроенной памяти - 50 показаний

4-х зондовая цилиндрическая головка измерения с интервалом между иглами 0.5 мм

рабочий столик для работы с образцами диаметром до 150 мм и габаритами Д не более 355 мм, Ш не более 215мм, В не более 195 мм

Система разработана для измерения сопротивления полупроводниковых пластин, слитков и напыленных пленок на различные подложки по технологии четырех точек с помощью специальной головки компании Jandel.

По согласованию с заказчиком

Профилометр NANOVEA PS50

минимальное толщина при измерении прозрачных материалов – 7мкм.

чувствительность перпендикулярно к поверхности – 5 нм;

разрешение перпендикулярно к поверхности – 20 нм;

диаметр светового пятна – 2 мкм;

разрешение по плоскости – 1 мкм.

3D бесконтактный профилометр для проведения измерения с нанометровым разрешением структуры поверхности, быстрых трёхмерных метрологических измерений, а также точного распределения толщин.

По согласованию с заказчиком